台積電：A16技術不一定須用艾司摩爾High NA EUV

（中央社阿姆斯特丹14日綜合外電報導）台積電業務開發資深副總經理張曉強今天表示，台積電的A16技術製程節點不一定需要用到艾司摩爾（ASML）高數值孔徑極紫外光曝光機（High-NA EUV）。

路透社報導，張曉強今天在荷蘭阿姆斯特丹的研討會表示，A16廠的設計可能容納High-NA EUV，但這並非確定。

台積電是艾司摩爾一般極紫外光曝光機的最大客戶。

今天稍早，台積電歐洲子公司總經理狄波特（Paul de Bot）也在荷蘭舉行的研討會上透露，台積電設於德國的歐洲首座廠擬於2024年第4季開始動工。

狄波特在研討會上表示，建廠作業正著手進行中。

台積電去年8月同意投資35億歐元（約新台幣1222億元），在德國設立該公司首座歐洲廠。（譯者：劉淑琴/核稿：陳正健）1130514

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