汎銓提告侵害專利　光焱：核心產品均為團隊自主研發

（中央社記者張建中新竹26日電）汎銓25日向智慧財產及商業法院控告光焱科技侵犯其矽光子相關光損偵測裝置專利，請求損害賠償新台幣2億元。光焱表示，所有核心產品均為團隊自主研發，也無須使用其他公司的技術與專利，汎銓指控不實。汎銓指出，本案已進入司法程序，尊重法院審理結果。

光焱發布聲明表示，與汎銓在檢測技術的世代上存在顯著落差。汎銓宣稱的專利，是採用傳統「金相顯微鏡」組成的方案進行光損量測；光焱是基於更先進的「高光譜成像技術感測模組」為核心技術，可高度整合於客戶端的系統，如探針台、電測機上，直接進行矽光子光學檢測。

光焱指出，光損檢測僅是光焱矽光子晶片檢測多功能模組的其中一項技術應用。

光焱強調，深耕光學與光電子晶片檢測領域已長達16年，向來尊重智慧財產權，所有核心產品均為團隊自主研發，並未且無須使用其他公司的技術與專利。營運、業務及設備出貨均正常進行，財務業務皆不受影響。後續將積極配合司法程序進行答辯，以捍衛公司、客戶及全體股東的合法權益。

汎銓也透過聲明表示，基於尊重司法程序原則，不就個別技術爭議或單方面說法進行逐一回應。案件已進入司法程序，相關事實與法律爭點，尊重法院審理結果。

宜特發布聲明指出，單一廠商不應透過「單一檢測設備」擴張解釋專利範圍，意圖干預整體矽光子與共同封裝光學（CPO）市場發展，此舉將不利於台灣半導體供應鏈的國際競爭力。目前營運一切正常，所有矽光子相關驗證專案均穩定執行，財務與業務運作健全。

汎銓控告光焱侵犯專利權，衝擊光焱今天股價重挫跌停，滑落至747元，與光焱合作的宜特股價也下挫5.52%，收在137元。汎銓股價則攻上漲停，達到474元。（編輯：潘羿菁）1150326