Intel亞利桑那新廠擬採用EUV ASML可望受惠

（中央社記者張建中新竹24日電）英特爾（Intel）宣布斥資200億美元在美國亞利桑那州新建兩座晶圓廠，新廠將採用EUV設備，法人預期，艾司摩爾（ASML）可望受惠，家登與帆宣也將沾光。

英特爾執行長季辛格（Pat Gelsinger）宣布一系列發展計畫，將斥資200億美元在亞利桑那州新建2座晶圓廠，預計2024年量產7奈米或更先進晶片，並設立代工服務部門，為其他半導體廠代工製造晶片，英特爾還將擴大外包規模，2023年起提高台積電等第3方生產比重。

針對英特爾重返代工領域，法人認為，台積電不僅製程技術領先1至2年，且沒有自有產品，不會與客戶競爭，可讓客戶安心下單，仍將處於良好競爭地位。

三星（Samsung）、聯電與中芯則可能面臨較大的競爭壓力，不過，法人表示，實際狀況仍需觀察英特爾的執行狀況與客戶意願。

法人指出，英特爾亞利桑那州新廠將採用極紫外光（EUV）設備，EUV設備供應商艾司摩爾營運可望受惠，家登與帆宣是艾司摩爾在EUV方面的合作夥伴，也可望連帶受惠。

台積電今天股價依然受到強大衝擊，收在新台幣576元，跌18元，跌幅3.03%，創2個多月新低，市值縮水4667億元，滑落至14.93兆元，並影響大盤指數約153 點。

聯電股價收在47.15元，跌1.35元，跌幅約2.78%。帆宣股價收在109元，跌1元，跌幅約0.9%。家登股價表現相對強勁，收在321.5元，漲6.5元，漲幅約2.06%。（編輯：黃國倫）1100324

本網站之文字、圖片及影音，非經授權，不得轉載、公開播送或公開傳輸及利用。