本網站使用相關技術提供更好的閱讀體驗,同時尊重使用者隱私,點這裡瞭解中央社隱私聲明當您關閉此視窗,代表您同意上述規範。
Your browser does not appear to support Traditional Chinese. Would you like to go to CNA’s English website, “Focus Taiwan”?
こちらのページは繁体字版です。日本語版「フォーカス台湾」に移動しますか。
中央社一手新聞APP Icon中央社一手新聞APP
下載

日經:台積電ASML新一代曝光機今年交貨 跟上英特爾

2024/11/1 21:53(11/3 10:33 更新)
請同意我們的隱私權規範,才能啟用聽新聞的功能。
請同意我們的隱私權規範,才能啟用聽新聞的功能。

(中央社台北1日綜合外電報導)日經亞洲報導,台積電向ASML訂購的當前最先進半導體製造設備、新一代高數值孔徑極紫外光(High NA EUV)曝光機,將於今年底前首件交貨,晚幾個月跟上美國對手英特爾的腳步。

日經亞洲(Nikkei Asia)指出,荷蘭製造商艾司摩爾(ASML)的High NA EUV曝光機也是目前世界最昂貴的晶片製造設備,每台要價約3億5000萬美元(約新台幣111億6500萬元),約等同3架F-35戰鬥機。

聽取過相關簡報的幾位消息人士告訴日經亞洲,台積電將於本季在新竹總部附近的研發中心安裝這款新的High NA EUV曝光機,而雖然這款機器要能量產得先進行廣泛的研究和工程工作,但台積電感覺沒必要趕。

根據消息人士說法,台積電很可能將在其推出所謂A10(angstrom 10,10埃米)製程後,才會考慮用High NA EUV曝光機來進行商業生產。

台積電目前目標是明年底前開始用2奈米製程生產晶片,而A10製程比2奈米約更先進2代。

反觀英特爾(Intel)已在幾個月前於其位於美國俄勒岡州(Oregon)的研發中心架設首批到貨的High NA EUV曝光機,並為了準備商業生產而正在進行測試。第2批機器也已於今年第2季出貨給英特爾。

英特爾為了奪回晶片製造領導地位,正在努力加快製程發展,並鎖定最晚在2027年讓High NA EUV曝光機進行商業生產。英特爾為了專注研發自身技術,已將今明兩年的中央處理器(CPU)製造工作部分外包給台積電。(譯者:張正芊/核稿:陳正健)1131101

中央社「一手新聞」 app
iOS App下載Android App下載

本網站之文字、圖片及影音,非經授權,不得轉載、公開播送或公開傳輸及利用。

請繼續下滑閱讀
台股上下震盪近600點 金管會:緊盯國際市場變化
172.30.142.62