光刻翻譯惹議 國教院將送辭典委員會討論
（中央社記者陳至中台北29日電）媒體報導，國教院的雙語詞彙資訊網將photolithography 翻譯成「光刻」，疑是中國用法。國教院則澄清，翻譯定稿應早於中國使用此名詞，但既然有人提出，就會提交資通辭典委員會討論。
「自由時報」今天報導，國家教育研究院的雙語詞彙、學術名詞暨辭書資訊網中，將半導體產業最昂貴的極紫外光（EUV）曝光機，翻譯成「光刻」機，並非台灣慣稱，而是中國用法。
中央社記者查詢上述網站，輸入Extreme ultraviolet lithography （EUV）有2筆結果，一筆是電子工程學術名詞，翻譯成「極紫外微影術；極紫外光刻」；另一筆則是電子機算機名詞，翻譯成「超紫外線平版印刷術」。
如果輸入photolithography有57筆結果，多數都翻成「光刻」；直接輸入中文「曝光機」有7筆結果，例如deep ultraviolet exposure machine翻譯成「深紫外線曝光機 」。
國家教育研究院語文教育及編譯研究中心主任林慶隆今天接受中央社電訪表示，photolithography 翻譯成「光刻」，是沿用自民國87年由國立編譯館出版的「電子計算機名詞」，應早於中國晚近相關技術的用法。當時邀集多名學者專家組成審查委員會，從81年開始討論到87年成書，共開了164次會議，相當慎重。
不過林慶隆說，既然有人提出質疑，就會提交資通辭典委員會進一步討論。國教院相關辭典都會定期由委員編修，畢竟科學技術不斷發展，部分名詞的翻譯習慣也可能改變。
林慶隆表示，如果是新舊用法的改變，一般來說會採並列方式，以目前學術界普遍用法為主。他強調，翻譯學術名詞的重點是信、達、雅，正確和精準是最重要的，但各界意見不一時，就須在委員會中尋求共識。（編輯：陳清芳）1110629
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