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環保署預告修正半導體空污管制 提升管理促革新

2023/2/18 13:43
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(中央社記者楊淑閔台北18日電)環保署今天預告「半導體製造業空氣污染管制及排放標準」修正草案,以「個別排放管道濃度標準」取代「全廠排放量」的管制方式,讓管理效率提升,並促進業者革新設備。

環保署今天預告「半導體製造業空氣污染管制及排放標準」修正草案及「公私場所應定期檢測及申報之固定污染源」修正草案。環保署說明,預告期為60天,以務實、自主、簡化三大重點進行研修,期望6月以前公告施行。

環保署空氣品質保護及噪音管制處處長蔡孟裕指出,半導體製造業等高科技產業蓬勃發展,廠房規模愈來愈大,草案內容修正管制方式,訂定「個別排放管道濃度標準」,擬取代現行「全廠排放量」的管制方式,這對不同規模的半導體製造廠來說會更合理,原本的管制方式對大廠來說太嚴,對小廠來說太鬆。

蔡孟裕說明,現行檢測管制採行「全廠排放量」時,作業時必須檢測自然對數的排放管數量(會大過1根);採行新制「個別排放管道濃度標準」則僅檢測1根,但是執行新制有前提、要件,必須機台的型式、規模、製程等一樣,而這麼做可以省去不必要的人力浪費,讓管理提高效率、更具彈性。

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他並說,不過要一直採行新制方式檢測的話,這1根排放管的檢測結果,處理效能須提高3%或是低於排放標準一半以上,才能繼續採行「個別排放管道濃度標準」方式進行管制,如此一來,也能導引業者在新建廠房或新設製程時,應選擇污染排放較低或防制效能較佳的設備,否則回歸「全廠排放量」方式進行管制。

另外,環保署也預告「公私場所應定期檢測及申報之固定污染源」修正草案,修正相關附表,簡化整合空污法涉及的檢測相關規定,並針對排放濃度高且易導致污染之虞者,規範應設置相關排放監測器,藉此強化自主管理。(編輯:陳政偉)1120218

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