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專家:中國晶片不只缺光刻機 諸多困難待突破

2023/5/30 14:09(5/30 16:38 更新)
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(中央社台北30日電)美國頒布禁令迫使中國急欲尋求晶片產製自主,但專家分析,中國晶片產業不只缺光刻機還有人才,其他像是設備、材料、設計、封裝、測試等領域,都需要更多有志者投入。

中國媒體騰訊科技今天報導,中國資深晶片研究專家汪波表示,一個典型的晶片技術,從實驗室研發到走向市場大約需要10年甚至更久,技術突破固然重要,穩定性、可製造性、良率也值得關注。

他說,即使是西方盟友之間也不可能分享最核心的晶片技術,只能通過自主研發,歐洲和日本的發展就是其中的例子。

而談到當前中國自主研發晶片面臨的瓶頸,汪波分析,中國不只缺高端光刻機以及相應的半導體材料,還急缺電子設計自動化(EDA)軟體。

他說:「沒有高端的EUV(極紫外光)光刻機,我們只是造不出最先進的芯片(晶片),而沒有了EDA設計軟件,所有的芯片設計公司都要停工。」

汪波表示,荷蘭半導體生產設備製造商艾司摩爾(ASML)經過多次延遲,最終克服難以想像的困難,2018年製成人類史上最精密的光刻機,每台成本高達2億美元(約新台幣61億元)。

他說,為打造EUV光刻機,艾司摩爾需要向全球數百家供應商採購零組件,而這些供應商又分佈在荷蘭、德國、日本、美國等世界各地,經通力合作才有了今天的EUV光刻機。

汪波表示,當然中國最缺的是人才,例如,EDA行業需要復合型的專才,既要懂寫程式和計算、又要懂半導體裝置或電路等,培養起來難且慢。

他說,此外,在晶片製造、設備、材料、設計、封裝和測試等領域,都需要更多有志於面對挑戰的人投入。

汪波指出,自主和全球化並行不悖,但晶片產品可藉由全球化取得,但不可能藉由全球化獲得晶片核心技術。

他說,當前國際情勢和趨勢依然影響著晶片技術的發展,例如受到科技脫鉤影響,中國從國外引進晶片技術的途徑受到限制以致業界感到陣痛,但如此也有助於下決心,以建立自主的完整研發生產鏈。(編輯:曹宇帆/陳沛冰)1120530

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