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台積電導入乾式光罩潔淨技術 創20億元效益

最新更新:2020/07/31 12:50

(中央社記者張建中新竹31日電)晶圓代工廠台積電導入乾式極紫外光(EUV)光罩潔淨技術,提升能源與資源使用效率,估計自民國107年試產迄今,累計創造新台幣20億元改善效益。

台積電表示,依製程需求,EUV微影製程光罩分為有保護膜及無保護膜兩種,公司選用無保護膜的EUV光罩,提高透光性,減少EUV微影製程曝光光能損耗。

為解決無保護膜EUV光罩的落塵問題,台積電品質暨可靠性組織攜手技術發展、營運組織,107年起共同開發落塵分析技術。

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台積電創新研發乾式EUV光罩潔淨技術,透過乾式技術快速去除落塵,取代需要使用純水與化學品的濕式清潔手法;同時以次奈米級分析技術精準定位落塵來源,從根本排除汙染源,至109年成功使落塵削減率超過99%。

台積電107年導入試產迄今,除有效減省水、化學品等能資源使用量,依據生產週期控管系統顯示,乾式潔淨技術導入後大幅縮短光罩保修頻率與時間,使光罩使用率躍升超過80%,並延長先進製程EUV光罩壽命,累計創造的改善效益達20億元。(編輯:林興盟)1090731

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