汎銓告光焱侵犯光損偵測裝置專利權　求償2億元

（中央社記者張建中台北25日電）半導體檢測廠汎銓今天向智慧財產及商業法院控告光電子晶片檢測廠光焱科技侵犯其矽光子相關光損偵測裝置專利，請求損害賠償新台幣2億元。

汎銓今天召開記者會，董事長柳紀綸表示，汎銓矽光子相關光損偵測裝置跨入設備市場，擁有台灣、日本和美國3地專利，已完成3台設備並導入客戶。

柳紀綸指出，近期發現光焱涉及使用汎銓光損偵測裝置專利相關的設備及技術方案，為避免專利權繼續遭受損害，汎銓向智慧財產及商業法院提起訴訟，主張光焱侵害光損偵測裝置發明專利的權利範圍。

柳紀綸說，考量台灣整體科技產業的價值與重要性，以及維護公司全體利害關係人權益的立場，基於長期投入研發所產生的競爭優勢，避免汎銓專利權繼續遭受損害，訴請法院判命光焱排除及防止侵害專利權的所有行為，並請求損害賠償2億元，以樹立台灣科技產業對於專利與營業秘密上採最高標準捍衛的決心與努力。

柳紀綸表示，汎銓會繼續蒐證，光焱董事余維斌擔任宜特董事長，若宜特侵犯汎銓專利權，汎銓會進一步提告宜特。

柳紀綸強調，汎銓預計今年底舉辦光損偵測裝置發表會，並將寡占矽光子相關故障分析市場，企圖搶下90%的市占率。（編輯：張均懋）1150325