美國疑EUV設備流入中國　艾司摩爾駁斥

（中央社華盛頓18日綜合外電報導）荷蘭晶片設備巨擘艾司摩爾正面臨川普政府上台以來的最大挑戰。美國商務部長盧特尼克在近期多場會議中向艾司摩爾高層點出美方疑慮，指出其旗下某款最新進設備可能已流入中國，疑似違反美國主導的出口管制規定。

彭博報導，據知情人士透露，盧特尼克（Howard Lutnick）在會談中向艾司摩爾（ASML）高層表達對該公司極紫外光曝光機（EUV）的關切。

極紫外光曝光機被台積電等企業用於生產處理器，供應輝達（Nvidia）與蘋果（Apple）等公司使用。由於在川普第一任期內實施的出口管制，艾司摩爾從未被允許將此類設備出口至中國。

因涉及私人談話而要求匿名的知情人士表示，艾司摩爾已反駁盧特尼克的說法，並解釋這些設備並未流入中國。這些設備體積龐大如校車、產量有限，且需要艾司摩爾的員工持續維護。

當被問及這些會議時，艾司摩爾發言人表示，艾司摩爾與各國政府保持溝通，且從未向中國出口任何極紫外光曝光機。

目前尚不清楚川普政府對艾司摩爾具體要求為何，而艾司摩爾現在必須自證清白，同時外界也不確定需要哪些資訊，才能平息極紫外光曝光機是否流入中國的爭議。

美國商務部未對多項詢問作出回應，包括是否掌握任何證據顯示中國境內存在極紫外光曝光機。（編譯：陳昱婷）1150619