台積電：ASML最新設備過於昂貴　2029年前暫不採用

（中央社台北23日綜合外電報導）彭博報導，台積電為節約成本，預計延至2029年後再將艾司摩爾（ASML）最先進的光刻設備用於晶片生產。這項決定可能對這家荷蘭製造商構成打擊。

台積電全球業務資深副總經理暨副共同營運長張曉強表示，公司目前沒有計畫採用ASML最新高數值孔徑極紫外光（High-NA EUV）光刻機，這類設備單台價格超過3.5億歐元（約新台幣131億元）。他同時宣布，公司最先進的A13晶片將於2029年投入生產。

根據彭博供應鏈資料，台積電是ASML最大的客戶。

張曉強說：「我們仍然能夠從現有EUV設備中獲益。」他並補充說，下一代高數值孔徑EUV設備「非常、非常貴」。

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台積電的決定對ASML來說可能並非好消息。投資者正密切關注高數值孔徑EUV設備的市場應用情況，ASML預計該設備可於2027至2028年進入量產，並力爭在2030年實現高達600億歐元的營收目標。

ASML的高數值孔徑EUV設備是現有光學系統的升級版，可協助晶圓製造商進一步縮小電晶體尺寸，製造更先進的人工智慧（AI）應用晶片。台積電已採購極少量此型設備，但目前僅用於研發，而非大規模生產。張曉強表示，公司正尋找無需使用高數值孔徑EUV機台就能提升晶片效能的方法。（編輯：蔡佳敏）1150423