台積電2奈米洩密案3被告續押抗告 最高院駁回確定

（中央社記者謝幸恩台北24日電）智慧法院審理台積電前工程師陳力銘、吳秉駿、戈一平涉洩漏關鍵技術等案，裁定繼續羈押禁見3個月，3名被告不服，提起抗告。最高法院今天駁回抗告，3人羈押禁見確定。

本案起於，台灣高等檢察署智慧財產檢察分署指控，陳力銘曾任台灣積體電路製造股份有限公司12廠良率部門工程師，離職後進入台積電的半導體製造設備供應商東京威力科創股份有限公司行銷部門。

民國112年下半年至今年上半年間，陳力銘為替東京威力公司爭取成為台積電先進製程更多站點設備供應商，多次要求當時在職的台積電工程師吳秉駿、戈一平提供關鍵技術與營業秘密，拍攝重製後以利東京威力公司檢討改善蝕刻機台表現，以爭取台積電2奈米製程蝕刻站點供應量產機台資格。

智財分署依營業秘密法意圖域外使用而竊取營業秘密罪、竊取營業秘密罪、國家安全法國家核心關鍵技術營業秘密之域外使用罪起訴3人，並求處陳力銘應執行有期徒刑14年、吳秉駿應執行9年徒刑、戈一平7年徒刑。

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案件起訴後，因陳力銘等3人在押中，移由智慧財產及商業法院審理。

智慧法院認為，陳力銘等3人雖已認罪，但供詞曾前後不一、避重就輕，且本案尚有其他可能涉案的法人或自然人已由檢方分案偵辦中；此外，3人於案發後均有疑似滅證舉措，有事實足認有勾串共犯、滅證之虞，仍有羈押的必要，據此裁定羈押禁見3個月。（編輯：李亨山）1140924

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